一：
真空濺射靶材技術(shù)百科
問題1：在不打開真空腔的前提下,怎么判斷磁控濺射靶材有沒有用完,有什么特殊現(xiàn)
答：輝光或弧光變色。一些靶用完了會露出不銹鋼底，放出的輝光肯定是不同顏色或形狀的。
問題2：靶材的制作工藝
真空濺射靶材答：磁控濺射靶材1）磁控濺射原理：在被濺射的靶極（陰極）與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體（通常為Ar氣），永久磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成正交電磁場。在電場的。
問題3：真空磁控濺射技術(shù)是?
答：或濺射產(chǎn)額降低時化合反應(yīng)達到某個域值，此后在靶上的化學合成速度大于逸出速度，認為化合物在靶面進行。2）反應(yīng)濺射參數(shù)與生成物性能的關(guān)系：在純Ar狀態(tài)下濺射沉積的時純鋁膜，當?shù)獨獗灰胝婵帐液螅忻姘l(fā)生變化，隨氮氣的。
問題4：真空鍍膜磁控濺射設(shè)備調(diào)灰藍色要用些什么靶材???而且要不導電,透光率10
答：要求好多哦用3/7鋁鉻靶，透光率沒有研究。
問題5：磁控濺射靶材中毒是什么原因,有何現(xiàn)像?如何避免?
答：若要徹底杜絕靶中毒，必須用中頻電源或射頻電源代替直流電源；減少反應(yīng)氣體的通入量、提高濺射功率，清理靶材上的污染物（特別是油污）、選用真空性能好的防塵滅弧罩等方法均可有效防止靶中毒現(xiàn)象的發(fā)生。靶材內(nèi)冷卻水浸泡的磁鐵。
問題6：淄博先導薄膜材料有限公司怎么樣
答：還不錯。公司發(fā)展前景好，產(chǎn)品銷量高，發(fā)展?jié)摿Υ?。先導薄膜材料有限公司是先導集團下屬子公司，致力于研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和回收真空鍍膜用濺射靶材和蒸發(fā)材料。
問題7：真空蒸鍍與真空濺鍍,離子鍍之間的區(qū)別是什么
答：磁控濺射鍍膜是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片，Ar正離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中。
問題8：真空鍍膜常用方法有真空蒸發(fā)和離子濺射,分別作用是?
真空濺射靶材答：從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華,并直接沉淀在基片上形成薄膜離子濺射鍍膜是利用氣體放電產(chǎn)生的正離子在電場的作用下的高速運動轟擊作為陰極的靶,使靶材中的原子或分子逸出來而沉淀到被鍍工件的表面,形成所需要的薄膜真空蒸發(fā)。
問題9：影響磁控靶材濺射電壓的分析
答：靶材材質(zhì)①在真空條件不變的條件下,不同材質(zhì)與種類靶材對磁控靶的正常濺射電壓會產(chǎn)生一定的影響②常用的靶材(如銅Cu、鋁Al、鈦Ti)的正常濺射電壓一般在400~600V的范圍內(nèi)③有的難濺射的靶材(如錳Mn、鉻Cr等)。
問題10：真空濺射鍍膜的鍍層為什么會裂?
真空濺射靶材答：基片應(yīng)與靶材平行，否則鍍膜厚度不均勻，可能導致開裂、翹曲等附著強度問題。
二：
真空濺射靶材技術(shù)資料
問題1：真空鍍膜中用磁控濺射可以鍍出彩色的嗎?用什么樣的氣體?用什么樣的靶
真空濺射靶材答：可以做用O2氣加鈦把才可以鍍七彩色鍍膜時間10分鐘氣體4的X10-1。
問題2：濺射沉膜技術(shù)解析
答：磁控濺射有直流和高頻兩類。按結(jié)構(gòu)又有同軸型、平面型和S槍等多種類型。靶極上出現(xiàn)不均勻侵蝕,會使磁控濺射靶材利用率降低。離子鍍膜法將真空蒸發(fā)和濺射工藝相結(jié)合,利用濺射對襯底作清潔處理,用蒸發(fā)的方法鍍膜。襯底置于陰極,它與蒸發(fā)。
問題3：熱壓燒結(jié)是鈦鋁合金濺射靶材最有潛力的制備技術(shù),他的特點是什么?_百度
答：熱壓燒結(jié)法首先我們對鈦鋁合金靶材快速熱壓燒結(jié)成型工藝做一下介紹該工藝使鈦鋁粉體在熱和力的共同作用下燒結(jié)成型,利用Ti—Al混合物中鋁的熔點低,將鈦粉粘結(jié)在一起,形成合金濺射靶材熱壓燒結(jié)示意圖如圖2所示該。
問題4：真空鍍膜鋁薄膜均勻性影響因素
答：真空鍍膜分類及關(guān)鍵真空鍍膜可分成兩大類：蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，包含真空離子揮發(fā)、磁控濺射、mbe分子結(jié)構(gòu)束外延性、膠溶液凝膠法等。薄厚勻稱性關(guān)鍵在于：材料和濺射靶材的晶格匹配度、外表面溫度、蒸發(fā)速度功率、真空。
問題5：本底真空對磁控濺射的影響?
答：磁控濺射，磁場控制的二級濺射。原理是將靶材周圍的氣體電離化，形成等離子體，在等離子體環(huán)境中濺射過程。屬于氣體放電范疇。優(yōu)質(zhì)的膜層需要控制膜層的穩(wěn)定性和均勻性，而體現(xiàn)在控制方面，則表現(xiàn)為：磁場、氣場、電源。1磁場。
問題6：濺射工藝原理
答：在真空反應(yīng)室中，由鍍膜AD22290所需的金屬構(gòu)成的固態(tài)厚板稱為靶材(target)（見圖139），它是電接地的。首先將氬氣充入室內(nèi)，并且電離成正電荷。帶正電荷的氬離子被接地的靶吸引，加速沖向靶。在加速過程中這些離子受到。
問題7：真空鍍膜設(shè)備上RF交流濺射和直流濺射在用途上有什么不同?提供的極間
答：RF交流濺射--射頻電源，可以濺射金屬、非金屬材料，濺射速率較低，鍍膜較均勻。直流濺射---恒流直流電源，只能濺射導電材料，如果濺射導磁材料如鐵、鎳等需要特殊結(jié)構(gòu)。一般靶材接電源的負極（陰極）基片接另外一極。不同的。
問題8：硅鋁靶材磁控濺射做二氧化硅涂層需要具備哪些條件及參數(shù)
答：磁控濺射方法典型的工作條件為：濺射氣壓05Pa，靶電壓600V，靶電流密度20mA/cm2，薄膜沉積速率2nm/min。
問題9：影響靶材鍍膜沉積速率的因素有哪些?
真空濺射靶材答：影響沉積速率的因素有很多,包括工作氣體的種類、工作氣體的壓力、濺射靶的溫度、磁場強度等但是今天,我們要談?wù)動绊懘趴貫R射靶材鍍膜沉積速率的3個重要因素:濺射電壓、電流和功率濺射電壓(V)濺射電壓對成膜速率的影響有這樣。
問題10：什么是光學鏡頭離子濺射法鍍膜?
答：本期將繼續(xù)介紹光學鏡頭鍍膜的另一種方法——離子濺射法。在鍍膜技術(shù)中，濺射是指從固體靶材上去除顆粒，為此，在真空中的等離子體中產(chǎn)生高能離子，并通過外部電場在目標方向上加速。離子與目標原子碰撞并形成撞擊級聯(lián)。如果超過。
三 ：